对半导体企业而言,产品良率代表着其产品的可靠性和经济性,是企业核心竞争力之一。“如超纯水质无法保证,或将造成厂商上亿的经济损失。”正因如此,良率提升成为半导体竞争的重中之重。超纯水作为芯片制造的重要一环,在半导体良率提升中发挥着重要作用。以高频科技为代表的本土超纯水企业,以先进超纯水工艺驱动半导体良率和生产效率提升,助力企业建立竞争优势。

超纯水是半导体实现高良率的重要保障

影响半导体产品良率的因素很多,杂质污染无疑是其中非常重要的因素。因此,芯片生产的几乎每一道工序都需要超纯水清洗,以去除芯片表面的杂质,如灰尘、油污、金属离子等,保证芯片的性能和可靠性。而如果清洁参数不达标,不仅难以实现清洗效果,水中的杂质还会导致芯片的局部故障或不良区域的形成,从而降低芯片的良率。

可见,超纯水的质量和纯度直接影响到半导体器件的良率。尤其迈入高阶制程后,一些过去没有影响良率的细微分子,也因为制程线径缩小,成为影响品质的关键。正因如此,随着半导体制程朝着更先进、更精细化方向发展,厂商对超纯水质量和清洗步骤的要求也越趋严格。

超纯水工艺越先进,水纯度越高,就越能为半导体元件良率提升带去保障。不过由于超纯水制备极为复杂,对工艺技术要求极高,这给国内超纯水企业带去挑战。

先进超纯工艺,守护芯片良率

近些年来,国内半导体产业链加快完善,产业链企业迅猛发展。在超纯水领域,本土企业超纯水生产制备技术和工艺日益成熟,为半导体产业发展注入新动能。

作为本土超纯水企业的代表,高频科技专注半导体高端制造业,拥有二十多年的历史与技术沉淀,为半导体高端制造等行业客户提供领先的超纯水与循环再生解决方案及装备。高频科技以创新研发为引导,力促工艺技术不断突破和进步,当前已掌握了先进半导体制程所需的超纯水全部核心工艺。

具体而言,高频科技从多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除、电渗析、超滤、钠滤、真空脱气塔、膜脱气等18+项专利处理环节,配合8次增压提升,预处理、初级制备和抛光处理三个步骤,在工艺技术方面不断突破,不断满足半导体企业对超纯水水质极高的要求。高频科技以先进超纯工艺,已经实现领先于行业的技术成果,产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,不断满足半导体行业日趋提升的用水需求,助力芯片良率和生产线效率提升,获得客户认可和行业广泛关注。

半导体超纯水系统包括了众多的子系统,功能单元及配套系统,不管哪个环节出问题都可能影响产品品质。因此,除了了解工艺,懂得如何生产满足工艺指标要求的超纯水外,保持系统的可靠稳定同样对于芯片制造至关重要,这不仅与终端材料和规格的选择、系统管路设计的优化相关,同时与超纯水装置的控制系统有关,以上方面高频科技都有一定优势。

近年来,受益于国家战略和市场旺盛需求驱动,中国半导体产业迅猛发展。不过,在广阔发展前景下,本土半导体企业仍需稳扎稳打,逐步提升先进制程产品良率,并稳步推进扩产,以产品品质和技术能力应对国际竞争。相信高频科技等产业链企业将继续做好自主研发与开放创新协同共进,赋能国内半导体产业升级优化。

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